W5型全譜直讀光譜儀,可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統(tǒng)采用CMOS檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素,它都能準確、可靠的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗積累,針對不同材料、不同要求,設計了這款全新的、更具的全譜直讀光譜儀,可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的應用。
技術優(yōu)勢
一:性能優(yōu)越的光學系統(tǒng)
帕邢-龍格結構凹面光柵,全譜覆蓋,滿足客戶對全元素檢測的需求。
直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件,保證紫外區(qū)域的*性能。
高分辯率多COMS讀出系統(tǒng),更低的暗電流,更好的檢出限,更高的穩(wěn)定性,更強的靈敏度,滿足N的分析要求。
二:智能數(shù)字激發(fā)光源
全數(shù)字化智能復合光源DDD技術,帶來優(yōu)越分析性能。
緊湊的設計及半導體控制技術,使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強的可靠性。
高能預燃技術(HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整,充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。
三:智能樣品激發(fā)臺設計
四:智能集成氣路模塊
智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置
的氬氣噴射技術,有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移,確保CCD檢測器能夠觀測高溫區(qū)域光信號,提高精度和穩(wěn)定性。
激發(fā)后,脈沖式氬氣吹掃,提高粉塵去除效果,提升儀器的短期和長期穩(wěn)定性。
五:智能真空測量和控制
真空系統(tǒng)完全程控,在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間,
雙級設置,在儀器不運行的情況下,開啟待機真空運行狀態(tài)。
多級真空隔離措施及增加濾油裝置,保障光學元器件在可靠的環(huán)境中工作。
七:計算機及讀出系統(tǒng)
計算機與手機(或PAD)可同步顯示,方便面板操作。
數(shù)據(jù)可遠程傳輸,全面實現(xiàn)網(wǎng)絡化。實時方便對儀器運行狀態(tài)的監(jiān)測和控制。
八:光譜分析軟件
國際光譜儀制作標準的光譜儀軟件,操作界面人性化,功能標準化。
儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析方法和*的解決方案。
可根據(jù)用戶的材料要求,可現(xiàn)場延長標準曲線的測量上、下限。
技術參數(shù)
項目
指標
檢測基體
鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體
光學系統(tǒng)
帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)
波長范圍
165~580nm(可安裝上下限檢測器擴大波長范圍)
光柵焦距
400mm
探 測 器
高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型
DDD數(shù)字激發(fā)光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率
100-1000Hz
放電電流
*400A
檢測時間
依據(jù)樣品類型而定,一般在25s左右
電極類型
鎢材噴射電極
分析間隙
樣品臺分析間隙:3.4mm
真空系統(tǒng)
真空軟件自動控制、監(jiān)測
光室恒溫
34℃,溫度自動監(jiān)測
氬氣純度
99.999%
氬氣壓力
0.5MPa
工作電源
AC220V 50/60Hz
儀器尺寸
860*680*438mm
儀器重量
約100kg
其他推薦產(chǎn)品
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四川國產(chǎn)臺式全譜直讀光譜儀金義博W5型
產(chǎn)品介紹
W5型全譜直讀光譜儀,可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統(tǒng)采用CMOS檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素,它都能準確、可靠的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗積累,針對不同材料、不同要求,設計了這款全新的、更具的全譜直讀光譜儀,可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的應用。
技術優(yōu)勢
一:性能優(yōu)越的光學系統(tǒng)
帕邢-龍格結構凹面光柵,全譜覆蓋,滿足客戶對全元素檢測的需求。
直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件,保證紫外區(qū)域的*性能。
高分辯率多COMS讀出系統(tǒng),更低的暗電流,更好的檢出限,更高的穩(wěn)定性,更強的靈敏度,滿足N的分析要求。
二:智能數(shù)字激發(fā)光源
全數(shù)字化智能復合光源DDD技術,帶來優(yōu)越分析性能。
緊湊的設計及半導體控制技術,使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強的可靠性。
高能預燃技術(HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整,充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。
三:智能樣品激發(fā)臺設計
四:智能集成氣路模塊
智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置
的氬氣噴射技術,有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移,確保CCD檢測器能夠觀測高溫區(qū)域光信號,提高精度和穩(wěn)定性。
激發(fā)后,脈沖式氬氣吹掃,提高粉塵去除效果,提升儀器的短期和長期穩(wěn)定性。
五:智能真空測量和控制
真空系統(tǒng)完全程控,在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間,
雙級設置,在儀器不運行的情況下,開啟待機真空運行狀態(tài)。
多級真空隔離措施及增加濾油裝置,保障光學元器件在可靠的環(huán)境中工作。
六:透鏡清理裝置
七:計算機及讀出系統(tǒng)
計算機與手機(或PAD)可同步顯示,方便面板操作。
數(shù)據(jù)可遠程傳輸,全面實現(xiàn)網(wǎng)絡化。實時方便對儀器運行狀態(tài)的監(jiān)測和控制。
八:光譜分析軟件
國際光譜儀制作標準的光譜儀軟件,操作界面人性化,功能標準化。
儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析方法和*的解決方案。
可根據(jù)用戶的材料要求,可現(xiàn)場延長標準曲線的測量上、下限。
技術參數(shù)
項目
指標
檢測基體
鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體
光學系統(tǒng)
帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)
波長范圍
165~580nm(可安裝上下限檢測器擴大波長范圍)
光柵焦距
400mm
探 測 器
高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型
DDD數(shù)字激發(fā)光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率
100-1000Hz
放電電流
*400A
檢測時間
依據(jù)樣品類型而定,一般在25s左右
電極類型
鎢材噴射電極
分析間隙
樣品臺分析間隙:3.4mm
真空系統(tǒng)
真空軟件自動控制、監(jiān)測
光室恒溫
34℃,溫度自動監(jiān)測
氬氣純度
99.999%
氬氣壓力
0.5MPa
工作電源
AC220V 50/60Hz
儀器尺寸
860*680*438mm
儀器重量
約100kg