小型鎢舟蒸鍍儀KT-Z1650CVD
是一款小型多功能鍍膜儀,額定1800度高溫,自動樣品擋板,靶臺旋轉(zhuǎn),觸摸屏多段控制,工藝儲存等功能。
正空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程:(1)加熱蒸發(fā)過程:包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程,每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。(2)氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運輸,即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。
(3)蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā),凝聚,成核,核生長,形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)
低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度,因此,氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。
SHAPE * MERGEFORMAT
編輯
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
技術(shù)參數(shù)
控制方式 |
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 |
數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 |
≤1200W |
輸出電壓電流 |
電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 |
機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 |
電控 |
真空腔室 |
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 |
可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉(zhuǎn)速 |
8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 |
70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) |
≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 |
鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 |
機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |
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KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓,電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié)及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。