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納米石墨NMP漿料研磨分散機(jī)

價(jià)格
¥118,900.00

型號(hào)
CMD2000

品牌
IKN

所在地
上海市

更新時(shí)間
2022-10-13 15:31:01

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    納米石墨NMP漿料研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到***低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。




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    膨脹石墨原料經(jīng)過氧化還原法制成,加NMP 用于導(dǎo)電漿料,鋰電池漿料

     


    石墨烯漿料分為兩種,以水為介質(zhì)分散叫水性,以NMP為介質(zhì)分散叫油性,石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同,一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料,影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多,設(shè)備的選型,分散劑的使用,固含量的把握 

    石墨烯主要制備方法:
    制備石墨烯常見的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法和化學(xué)氣相沉積法(CVD)。

    1.
    機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng),得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu),但是得到的片層小,生產(chǎn)效率低。


    2.氧化還原法是通過將石墨氧化,增大石墨層之間的間距,再通過物理方法將其分離,***后通過化學(xué)法還原,得到石墨烯的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,產(chǎn)量高,目前國(guó)內(nèi)使用氧化,還原法制作石墨烯漿料的,如:寧波墨
    稀、東莞鴻納、第六元素等企業(yè),


    3.SiC外延法是通過在高真空的高溫環(huán)境下,使硅原子升華脫離材料,剩下的C原子通過自組形式重構(gòu),從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯,但是這種方法對(duì)設(shè)備要求較高


    4.CVD也叫氣相沉積法是目前***有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點(diǎn),國(guó)內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)

     

    石墨烯水性漿料生產(chǎn)設(shè)備

    IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先x的高速研磨分散技術(shù),通過高
    轉(zhuǎn)速(***高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
     

    石墨烯水性漿料生產(chǎn)設(shè)備

    在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
        

     納米研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

     

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 

     

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    轉(zhuǎn)速(***高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。


     

    IKN研磨分散機(jī)簡(jiǎn)介: 

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